תֵאוּר
מנשאי ה-Semicorex Wafer עם ציפוי SiC מספקים יציבות ומוליכות תרמית יוצאי דופן, ומבטיחים פיזור חום אחיד במהלך תהליכי CVD, חיוניים למאפייני סרט דק וציפוי באיכות גבוהה.
תכונות עיקריות:
1. יציבות ומוליכות תרמית יוצאי דופןמנשאי הפרוסות המצופים SiC שלנו מצטיינים בשמירה על טמפרטורות יציבות ועקביות, חיוניות לתהליכי CVD. זה מבטיח פיזור חום אחיד, המוביל לאיכות סרט דק ואיכות ציפוי מעולה.
2. ייצור מדויקכל מנשא רקיק מיוצר בסטנדרטים מדויקים, המבטיח עובי אחיד וחלקות פני השטח. דיוק זה חיוני להשגת קצבי שיקוע עקביים ומאפייני סרט על פני פרוסות מרובות, לשיפור איכות הייצור הכוללת.
3. מחסום טומאהציפוי ה-SiC פועל כמחסום אטום, ומונע את התפשטותם של זיהומים מהסוספטור לתוך הפרוסה. זה ממזער את סיכוני הזיהום, שהוא קריטי לייצור התקני מוליכים למחצה בטוהר גבוה.
4. עמידות ויעילות עלותהמבנה החזק וציפוי ה-SiC משפרים את העמידות של נושאי הפרוסות, ומפחיתים את תדירות ההחלפות של סופגים. זה מוביל לעלויות תחזוקה נמוכות יותר ולמזעור זמן השבתה, מה שמגדיל את היעילות של פעולות ייצור מוליכים למחצה.
5. אפשרויות התאמה אישיתניתן להתאים אישית את מנשאי ה-Semicorex עם ציפוי SiC כדי לעמוד בדרישות התהליך הספציפיות, כולל וריאציות בגודל, צורה ועובי הציפוי. גמישות זו מאפשרת אופטימיזציה של הקולט כדי להתאים לדרישות הייחודיות של תהליכי ייצור מוליכים למחצה שונים. אפשרויות התאמה אישית מאפשרות פיתוח של עיצובי סופגים המותאמים ליישומים מיוחדים, כגון ייצור בנפחים גבוהים או מחקר ופיתוח, מה שמבטיח ביצועים מיטביים למקרי שימוש ספציפיים.
יישומים:
מנשאי רקיקת Semicera עם ציפוי SiC מתאימים באופן אידיאלי עבור:
• צמיחה אפיטקסיאלית של חומרים מוליכים למחצה
• תהליכי שקיעת אדים כימיים (CVD).
• ייצור פרוסות מוליכים למחצה באיכות גבוהה
• יישומי ייצור מוליכים למחצה מתקדמים
מפרט טכני:
