-
תהליך וציוד מוליכים למחצה (3/7) - תהליך וציוד חימום
1. סקירה כללית חימום, המכונה גם עיבוד תרמי, מתייחס להליכי ייצור הפועלים בטמפרטורות גבוהות, בדרך כלל גבוהות מנקודת ההיתוך של אלומיניום. תהליך החימום מתבצע בדרך כלל בתנור בטמפרטורה גבוהה וכולל תהליכים מרכזיים כגון חמצון,...קרא עוד -
טכנולוגיה וציוד מוליכים למחצה (2/7) - הכנה ועיבוד של ופל
ופלים הם חומרי הגלם העיקריים לייצור מעגלים משולבים, התקני מוליכים למחצה בדידים והתקני כוח. יותר מ-90% מהמעגלים המשולבים עשויים על פרוסות בטוהר גבוה ואיכותי. ציוד להכנת פרוסות מתייחס לתהליך של ייצור סיליקון פוליקריסטלי טהור...קרא עוד -
מהו מנשא RTP Wafer?
הבנת תפקידו בייצור מוליכים למחצה בחינת התפקיד החיוני של נושאי פרוסות RTP בעיבוד מוליכים למחצה מתקדמים בעולם של ייצור מוליכים למחצה, דיוק ובקרה חיוניים לייצור מכשירים באיכות גבוהה המניעים את האלקטרוניקה המודרנית. אחד מה...קרא עוד -
מה זה Epi Carrier?
בחינת תפקידו המכריע בעיבוד פרוסות אפיטקסיאליות הבנת החשיבות של נושאי אפי בייצור מוליכים למחצה מתקדמים בתעשיית המוליכים למחצה, ייצור פרוסות אפיטקסיאליות (epi) באיכות גבוהה הוא שלב קריטי בייצור מכשירים ...קרא עוד -
תהליך וציוד מוליכים למחצה (1/7) - תהליך ייצור מעגלים משולב
1. אודות מעגלים משולבים 1.1 הרעיון והלידה של מעגלים משולבים מעגלים משולבים (IC): מתייחס למכשיר המשלב התקנים פעילים כגון טרנזיסטורים ודיודות עם רכיבים פסיביים כגון נגדים וקבלים באמצעות סדרה של טכנולוגיות עיבוד ספציפיות...קרא עוד -
מהו מנשא אפי פאן?
תעשיית המוליכים למחצה מסתמכת על ציוד מיוחד מאוד לייצור מכשירים אלקטרוניים באיכות גבוהה. מרכיב קריטי כזה בתהליך הגדילה האפיטקסיאלי הוא נשא האפי פאן. ציוד זה ממלא תפקיד מרכזי בתצהיר של שכבות אפיטקסיאליות על פרוסות מוליכים למחצה, ב...קרא עוד -
מהו סוליד MOCVD?
שיטת MOCVD היא אחד התהליכים היציבים ביותר המשמשים כיום בתעשייה לגידול סרטים דקים חד גבישיים באיכות גבוהה, כגון שכבות InGaN חד פאזיות, חומרים III-N וסרטי מוליכים למחצה עם מבני באר קוונטיים רבים, והיא מהווה סימן מצוין. ...קרא עוד -
מהו ציפוי SiC?
מהו ציפוי סיליקון קרביד SiC? ציפוי סיליקון קרביד (SiC) הוא טכנולוגיה מהפכנית המספקת הגנה וביצועים יוצאי דופן בסביבות בטמפרטורה גבוהה ובסביבות ריאקטיביות כימית. ציפוי מתקדם זה מוחל על חומרים שונים, כולל...קרא עוד -
מה זה MOCVD Wafer Carrier?
בתחום ייצור המוליכים למחצה, טכנולוגיית MOCVD (Metal Organic Chemical Vapor Deposition) הופכת במהירות לתהליך מפתח, כאשר ה-MOCVD Wafer Carrier הוא אחד ממרכיבי הליבה שלה. ההתקדמות ב-MOCVD Wafer Carrier לא באה לידי ביטוי רק בתהליך הייצור שלו אלא...קרא עוד -
מהו טנטלום קרביד?
טנטלום קרביד (TaC) הוא תרכובת בינארית של טנטלום ופחמן עם הנוסחה הכימית TaC x, כאשר x בדרך כלל משתנה בין 0.4 ל-1. הם חומרים קרמיים קשים במיוחד, שבירים, עקשן עם מוליכות מתכתית. הן אבקות חומות-אפורות והאם אנחנו...קרא עוד -
מהו טנטלום קרביד
טנטלום קרביד (TaC) הוא חומר קרמי בטמפרטורה גבוהה במיוחד עם עמידות בטמפרטורה גבוהה, צפיפות גבוהה, קומפקטיות גבוהה; טוהר גבוה, תכולת טומאה <5PPM; ואינריות כימית לאמוניה ומימן בטמפרטורות גבוהות, ויציבות תרמית טובה. מה שנקרא אולטרה-גבוה...קרא עוד -
מהי אפיטקסיה?
רוב המהנדסים אינם מכירים את האפיטקסיה, אשר ממלאת תפקיד חשוב בייצור התקני מוליכים למחצה. ניתן להשתמש באפיטקסיה במוצרי שבבים שונים, ולמוצרים שונים יש סוגים שונים של אפיטקסיה, כולל אפיטקסיה Si, אפיטקסיה SiC, אפיטקסיה GaN וכו'. מהי אפיטקסיה? אפיטקסיה אני...קרא עוד